印染厂热转印定型UV光氧废气处理设备基本设置封切机

印染厂热转印定型UV光氧废气处理设备基本设置

印染厂热转印定型UV光氧废气处理设备基本设置

目前对印染废气比较有效的废气处理设备工艺有湿法净化塔+光氧催化设备。废气通过引风机进入湿法净化塔，通过循环泵的水流冲击，此时含尘气体中的尘粒便被水捕集，尘粒因重力经塔壁流入循环池，含漆雾、粉尘废气经过有效过滤脱离，净化后气体在进入光氧催化净化器中，通过特定波长的紫外线光照射在催化剂的催化作用下，产生大量的氢氧自由基，利用它的强氧化性快速将有机废气处理分解，生成无毒无害的二氧化碳和水。

印染厂热转印定型UV光氧废气处理设备基本设置许多废气中富含一种以上污染物,且污染物性质杂乱、浓度高、处理请求严，此刻仅选用一种处理单元就难以经济有用地到达处理意图。因而，需要两种或两种以上的技能单元组合使用。富含粒子污染物的气体常选用旋风分离、过滤、静电捕集和湿式洗刷；硫氧化物处理常选用吸收和吸附。关于中小型锅炉烟气的处理，可以选用多管旋风除尘+喷淋脱硫技能或选用废气洗刷塔，并向洗刷水中加入适量的加碱性吸收剂。含高浓度有机废气处理,选用光氧催化技术进行处理。

光氧催化设备内部结构光氧催化除臭设备是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O的除臭设备。光氧催化除臭设备采用的半导体是目前反应效率较高的纳米TiO2光催化剂,经蜂窝陶瓷载附特殊处理后使用,达到理想效果。

印染厂热转印定型UV光氧废气处理设备基本设置根据UV光解净化法的工作原理设计的光解式废气净化装置，该设备包括箱体和分别设置在箱体左、右两端的进、出风口，所述箱体内自左向右依次设置有第一导流装置、过滤装置、UV光解装置和控制系统，第一导流装置包括对气体进行分流的第一导流板；过滤装置包括过滤网；光解式废气净化装置包括起光解净化作用的UV灯管，所述箱体前端或者后端的内侧壁上均布设有若干灯管座，每个所述灯管座上自上而下均布设有若干所述UV灯管；控制系统通过控制控制面板实现控制光解式废气净化装置运行或者停止工作。本实用新型，第一分流装置使得风阻极低,节约了排风动力能耗；过滤装置吸附异味，并将大颗粒的粉尘隔离阻挡住；UV光解装置通过紫外线光解实现zui终的气体分解净化。

实用新型公开了一种吸附光氧废气净化器，包括箱体，所述的箱体一端开设有进风口，所述的箱体内位于进风口处设有初效过滤层，所述的初效过滤层的上方设有若干紫外光发射管，所述的紫外光发射管之间设有若干吸附式活性碳纤维层，所述的相邻吸附式活性碳纤维层之间设有光催化反应层，所述的箱体的另一端设有出风口，所述的箱体内位于靠近出风口处设有微波发射器，所述的箱体外壁上设有控制器。本实用新型的设备净化效率可以提高60%以上，催化反应速率提高1/3，而且设备运行维护方便，运行费用低，效果稳定。（废气温度宜为常温，不高于60℃；废气的相对湿度应低于95%；pH适宜的范围为7~9；预处理设备应尽量降低粉尘和其他黏性或油脂性颗粒物，一般预处理后其含量不高于10mg/m3。）裂解反应时间极短（＜0.01s），氧化反应时间需约2~3s，即废气从光解设备出来以后需2~3的氧化反应时间，即一般废气从UV光解设备出来至检测口须15米长或以上的管道。配置合适功率的UV光解净化设备。（废气温度宜为常温，不高于60℃；废气的相对湿度应低于95%；pH适宜的范围为7~9；预处理设备应尽量降低粉尘和其他黏性或油脂性颗粒物，一般预处理后其含量不高于10mg/m3。）裂解反应时间极短（＜0.01s），氧化反应时间需约2~3s，即废气从光解设备出来以后需2~3的氧化反应时间，即一般废气从UV光解设备出来至检测口须15米长或以上的管道。配置合适功率的UV光解净化设备。

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